Китай начнет производство ИИ-чипов в обход санкций США

Китайские ученые рассматривают возможность строительства крупных предприятий по проектированию полупроводниковых чипов для создания систем искусственного интеллекта (ИИ). Об этом сообщает South China Morning Post.

В рамках инициативы планируется построить ускоритель частиц диаметром 100-150 метров, который используется для производства ИИ-процессоров. Исследователи из университета Цинхуа уже ведут переговоры с властями провинции Сюнган о выборе площадки.

Ускорители частиц заменят роль литографической машины на этапах производства полупроводниковых чипов для систем искусственного интеллекта высокого уровня. Генерируемый устройством луч света представляет собой крайний ультрафиолет (EUV), который используется при создании чипов размером меньше 7 нм.

«Одним из потенциальных применений наших исследований является источник света для будущих машин EUV-литографии. Я думаю, именно поэтому международное сообщество уделяет им пристальное внимание», — заявил руководитель проекта профессор Тан Чуаньсян.

В основе китайского исследования лежит новый механизм люминесценции под названием устойчивое микрогруппирование (SSMB). Технология является «идеальным» источником света и имеет более высокую среднюю мощность и производительность при низкой себестоимости.

В докладе ученых сказано, что собственные технологии помогут Китаю обойти действующие санкции США. 

Китайские ученые рассматривают возможность строительства крупных предприятий по проектированию полупроводниковых чипов для создания систем искусственного интеллекта (ИИ). Об этом сообщает South China Morning Post.

В рамках инициативы планируется построить ускоритель частиц диаметром 100-150 метров, который используется для производства ИИ-процессоров. Исследователи из университета Цинхуа уже ведут переговоры с властями провинции Сюнган о выборе площадки.

Ускорители частиц заменят роль литографической машины на этапах производства полупроводниковых чипов для систем искусственного интеллекта высокого уровня. Генерируемый устройством луч света представляет собой крайний ультрафиолет (EUV), который используется при создании чипов размером меньше 7 нм.

«Одним из потенциальных применений наших исследований является источник света для будущих машин EUV-литографии. Я думаю, именно поэтому международное сообщество уделяет им пристальное внимание», — заявил руководитель проекта профессор Тан Чуаньсян.

В основе китайского исследования лежит новый механизм люминесценции под названием устойчивое микрогруппирование (SSMB). Технология является «идеальным» источником света и имеет более высокую среднюю мощность и производительность при низкой себестоимости.

В докладе ученых сказано, что собственные технологии помогут Китаю обойти действующие санкции США. 

Источник — ForkLog